[发明专利]微纳光纤表面制作光栅的方法有效

专利信息
申请号: 201510840618.3 申请日: 2015-11-27
公开(公告)号: CN105353459B 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 李宇航;徐忠扬;王力军 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02;G03F7/20
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 代理人: 王赛
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种微纳光纤表面制作光栅的方法,其中,该方法包括以下步骤:提供一微纳光纤;在该微纳光纤表面涂覆一层紫外光敏功能化膜;以及使用紫外光源对该紫外光敏功能化膜进行逐点曝光。本发明提出的制作方法利用涂覆在微纳光纤表面的功能化膜,借助于薄膜材料的光敏性,利用低功率的紫外光进行曝光制备光栅。该方法不会引起石英微纳光纤的损伤,保证了微纳光纤光栅的力学性能。而且,该方法与当前通用的光纤光栅制备方法和设备完全兼容。
搜索关键词: 光纤 表面 制作 光栅 方法
【主权项】:
1.一种微纳光纤表面制作光栅的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:提供一微纳光纤;在该微纳光纤表面涂覆一层紫外光敏功能化膜,该紫外光敏功能化膜的材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚苯乙烯、聚亚酰胺、紫外光敏树脂SU‑8和AZ4620中的一种或多种;以及使用紫外光源对该紫外光敏功能化膜进行逐点曝光。
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