[发明专利]栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置在审
| 申请号： | 201510705327.3 | 申请日： | 2015-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN105200378A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力;王健 | 申请（专利权）人： | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人： | 方晓佳 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明属于物理气相沉积领域,公开了一种栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置。该装置包括由电源Ⅰ供电的柱状阴极靶、由偏压电源供电的工件架，在柱状阴极靶前放置一个由电源Ⅱ供电的栅极。本发明将栅极与柱弧相结合，在提高薄膜结合力、光滑度的前提下保持了更高的薄膜沉积速率。 | ||
| 搜索关键词： | 栅极 辅助 柱状 电弧 离子 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
栅极辅助柱状电弧离子镀膜装置，包括由电源Ⅰ（1）供电的柱状阴极靶（3）、由偏压电源（5）供电的工件架（6），其特征在于在柱状阴极靶（3）前放置一个由电源Ⅱ（2）供电的栅极（4）。
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