[发明专利]显影装置及光刻设备

摘要

本发明公开了一种显影装置及光刻设备，所述显影装置包括显影腔室，所述显影腔室用于容纳待显影的基板，所述显影装置还包括加热机构；所述加热机构包括多个加热件，多个所述加热件设置在所述显影腔室内，以对显影腔室内的位于所述加热机构上方或下方的基板的不同显影位置进行加热，且多个所述加热件能够分别独立控制加热。

主权项

1.一种显影装置，包括显影腔室，所述显影腔室用于容纳待显影的基板，其特征在于，所述显影装置还包括加热机构；所述加热机构包括多个加热件，多个所述加热件设置在所述显影腔室内，以对显影腔室内的位于所述加热机构上方或下方的基板的不同显影位置进行加热；所述显影装置还包括控制机构，所述控制机构能够根据所述基板在未受热的情况下所述基板上各个显影位置的显影速度控制各个所述加热件的开启状态和/或加热温度，以使得在显影过程中所述基板的多个显影位置的显影速度相同；所述显影装置还包括厚度测量机构，所述厚度测量机构用于分别在显影前和显影后测量所述基板上各个显影位置的光刻胶的厚度，并将各个显影位置的位置信息及其在显影前和显影后的光刻胶的厚度提供给所述控制机构；所述控制机构能够根据所述基板上各个显影位置在显影前的光刻胶厚度和显影后的光刻胶厚度计算各个显影位置的光刻胶的溶解速度，作为所述未受热的情况下所述基板上对应的显影位置的显影速度。