[发明专利]显影装置及光刻设备

说明书

本发明公开了一种显影装置及光刻设备，所述显影装置包括显影腔室，所述显影腔室用于容纳待显影的基板，所述显影装置还包括加热机构；所述加热机构包括多个加热件，多个所述加热件设置在所述显影腔室内，以对显影腔室内的位于所述加热机构上方或下方的基板的不同显影位置进行加热，且多个所述加热件能够分别独立控制加热。

技术领域

本发明涉及显示面板制作技术领域，具体涉及一种显影装置及光刻设备。

背景技术

制作阵列基板通常采用1+4mask工艺，通过一次光刻构图工艺形成有源层、源级、漏极。具体的，首先依次形成半导体层、源漏材料层、光刻胶层；其次利用半透光掩膜板对光刻胶进行曝光并显影，使得显影后对应沟道区的光刻胶厚度小于对应源漏极的光刻胶厚度，而其余位置的光刻胶被显影液溶解掉；然后进行第一次刻蚀，形成有源层图形和相连的源漏极；之后对光刻胶灰化，去除沟道区上方的光刻胶，源漏极上方的光刻胶保留一部分；再进行第二次刻蚀，刻蚀掉沟道区对应的源漏材料层，形成源漏极。

在阵列基板中，不同位置的待形成图形的密度不同，从而使得显影过程中不同位置对显影速度也不同，即图形密度低的区域显影液消耗多，而使得显影液溶度较低，显影速度较慢；图形密度高则显影液消耗少，而使得显影液溶度较大，显影速度较快。而显影速度不同使得光刻胶的溶解程度不同，导致不同区域光刻胶厚度不同，当光刻胶厚度过高时，在上述第二次刻蚀后，源漏极连在一起而使得薄膜晶体管发生短路现象，当光刻胶厚度过低时，容易使得有源层被刻穿而发生开路，从而影响产品的质量。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显影装置及光刻设备，以提高显示用基板在显影时显影的均匀性。

为了实现上述目的，本发明提供一种显影装置，包括显影腔室，所述显影腔室用于容纳待显影的基板，所述显影装置还包括加热机构；

所述加热机构包括多个加热件，多个所述加热件设置在所述显影腔室内，以对显影腔室内的位于所述加热机构上方或下方的基板的不同显影位置进行加热。

可选的，所述显影装置还包括控制机构，所述控制机构能够根据所述基板上各个显影位置的图形形状控制各个所述加热件的开启状态和/或加热温度，以使得在显影过程中所述基板的多个显影位置的显影速度相同。

可选的，所述显影装置还包括控制机构，所述控制机构能够根据所述基板在未受热的情况下所述基板上各个显影位置的显影速度控制各个所述加热件的开启状态和/或加热温度，以使得在显影过程中所述基板的多个显影位置的显影速度相同。

可选的，所述基板的不同显影位置包括：基板的显示区和显示区周围用于设置栅极驱动电路的驱动区；所述加热机构包括两个独立控制的加热件，这两个加热件分别用于对位于加热机构上方的基板的显示区和显示区周围的驱动区进行加热。

可选的，所述显影装置还包括厚度测量机构，所述厚度测量机构用于分别在显影前和显影后测量所述基板上各个显影位置的光刻胶的厚度，并将各个显影位置的位置信息及其在显影前和显影后的光刻胶的厚度提供给所述控制机构；

所述控制机构能够根据所述基板上各个显影位置在显影前的光刻胶厚度和显影后的光刻胶厚度计算各个显影位置的光刻胶的溶解速度，作为所述未受热的情况下所述基板上对应的显影位置的显影速度。

可选的，所述显影腔室具有入口和出口，所述显影装置还包括传输机构，用于将所述基板从所述显影腔室的入口传输至所述显影腔室的出口。

可选的，所述显影装置还包括位置检测机构，该位置检测机构用于在所述传输机构传输所述基板时，实时检测对应于所述加热件的显影位置在所述基板上的位置信息；

所述控制机构能够根据所述位置检测机构所测得的显影位置的位置信息获取预先确定的所述基板在未受热的情况下相应的显影位置的显影速度。