[发明专利]用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510563701.0 申请日: 2015-09-07
公开(公告)号: CN105154799A 公开(公告)日: 2015-12-16
发明(设计)人: 曹兴民;庄志杰 申请(专利权)人: 基迈克材料科技(苏州)有限公司
主分类号: C22F1/04 分类号: C22F1/04;C23C14/34
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 郭春远
地址: 215214 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法,通过轧制工艺和退火工艺,控制变形量和温度,细化晶粒,改变挤压产生的纤维状晶粒组织,易于等轴化,使得晶粒尺寸达到200μm甚至100μm以下,且粒度均匀,且该靶材在200℃工作时组织稳定,从而满足了大尺寸TFT平板显示器靶材的应用条件。降低烧结能耗,在提高靶材以及TFT性能的同时,实现靶材及TFT器件成本的降低,适合规模化生产。
搜索关键词: 用于 tft 平板 显示器 高纯 铝板细晶靶材 制备 方法
【主权项】:
用于TFT平板显示器的超高纯铝板细晶靶材的制备方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤一:选取纯度大于99.999wt%的高纯铝铸锭为原材料,轧制之前对其表面进行简单的处理,保证表面光洁;步骤二:将高纯铝板材放至可逆热轧机中进行轧制处理,轧制前加热温度范围为300℃~450℃,进行8~12道次轧制过程,控制高纯铝板材总变形量为90%以上;步骤三:使用校平机校平板材,保证其平整度;步骤四:在200℃~300℃条件下对校平后的高纯铝板材进行退火处理,退火时间2~4小时;步骤五:通过表面铣削加工后,平均粒度在100~200μm,获得高纯铝板靶材。
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