[发明专利]高阈值电压功率MOS芯片、器件及提高阈值电压的方法有效
申请号: | 201510551061.1 | 申请日: | 2015-09-01 |
公开(公告)号: | CN105185779B | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
发明(设计)人: | 张少锋;周仲建;钟川 | 申请(专利权)人: | 成都方舟微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙)11276 | 代理人: | 刘云贵 |
地址: | 610041 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了高阈值电压功率MOS芯片、器件及提高阈值电压的方法。所述芯片包括由一个以上元胞构成的功率MOS芯片有源区、打线区,所述有源区包括源极、多晶硅栅、漏极,所述打线区包括分别用于源极、多晶硅栅进行打线的源极打线区、多晶硅栅打线区;其特征在于,进一步包括二极管区,所述二极管区包括第一齐纳二极管、第二齐纳二极管;第二齐纳二极管并联在多晶硅栅与源极之间,第一齐纳二极管与多晶硅栅串联。以及公开了基于所述芯片所封装形成的器件,以及提高功率MOS器件阈值电压的方法。本发明通过器件芯片布局设计使器件阈值得到提升,而且这些齐纳二极管可以使器件抗ESD能力得到大幅度提升。 | ||
搜索关键词: | 阈值 电压 功率 mos 芯片 器件 提高 方法 | ||
【主权项】:
高阈值电压功率MOS芯片,包括由一个以上元胞构成的功率MOS芯片有源区、打线区,所述有源区包括源极、多晶硅栅、漏极,以及一打线区,所述打线区包括分别用于源极、多晶硅栅进行打线的源极打线区、多晶硅栅打线区;其特征在于,进一步包括二极管区,所述二极管区包括第一齐纳二极管、第二齐纳二极管;第二齐纳二极管并联在多晶硅栅与源极之间,第一齐纳二极管与多晶硅栅串联,并连接到所述第二齐纳二极管与多晶硅栅连接点之外。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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