[发明专利]高阈值电压功率MOS芯片、器件及提高阈值电压的方法有效

专利信息
申请号: 201510551061.1 申请日: 2015-09-01
公开(公告)号: CN105185779B 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 张少锋;周仲建;钟川 申请(专利权)人: 成都方舟微电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙)11276 代理人: 刘云贵
地址: 610041 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了高阈值电压功率MOS芯片、器件及提高阈值电压的方法。所述芯片包括由一个以上元胞构成的功率MOS芯片有源区、打线区,所述有源区包括源极、多晶硅栅、漏极,所述打线区包括分别用于源极、多晶硅栅进行打线的源极打线区、多晶硅栅打线区;其特征在于,进一步包括二极管区,所述二极管区包括第一齐纳二极管、第二齐纳二极管;第二齐纳二极管并联在多晶硅栅与源极之间,第一齐纳二极管与多晶硅栅串联。以及公开了基于所述芯片所封装形成的器件,以及提高功率MOS器件阈值电压的方法。本发明通过器件芯片布局设计使器件阈值得到提升,而且这些齐纳二极管可以使器件抗ESD能力得到大幅度提升。
搜索关键词: 阈值 电压 功率 mos 芯片 器件 提高 方法
【主权项】:
高阈值电压功率MOS芯片,包括由一个以上元胞构成的功率MOS芯片有源区、打线区,所述有源区包括源极、多晶硅栅、漏极,以及一打线区,所述打线区包括分别用于源极、多晶硅栅进行打线的源极打线区、多晶硅栅打线区;其特征在于,进一步包括二极管区,所述二极管区包括第一齐纳二极管、第二齐纳二极管;第二齐纳二极管并联在多晶硅栅与源极之间,第一齐纳二极管与多晶硅栅串联,并连接到所述第二齐纳二极管与多晶硅栅连接点之外。
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