[发明专利]采用气体吹扫法消除腔体空闲产生的第一片效应问题

摘要

采用气体吹扫法消除腔体空闲产生的第一片效应问题，主要解决等离子体化学气相沉积生产过程中，在多个腔体进行跑片时，由于机械手调度的问题，导致其中某个腔体空闲,从而引起的第一片效应的问题。该方法是在腔体空闲时间歇的通入一定气体，来加强加热盘与喷淋板之间的传热，从而保持腔体的一种稳定状态，消除第一片效应。实现步骤:1)载物台控温；2)工艺前处理；3)腔体空闲；4)间歇通气；5)工艺前处理；6)工艺片的沉积。本发明能够简单有效地消除等离子体化学气相沉积生产过程中，由于腔体的空闲导致的第一片效应。可广泛应用于半导体薄膜制造及应用技术领域。

主权项

采用气体吹扫法消除腔体空闲产生的第一片效应问题，其特征在于：该方法是通过下述步骤实现:1)载物台控温：下电极通过热偶准确控制温度；2)工艺前处理：在腔室内进行沉积，刻蚀操作；3)腔体空闲：由于机械手调度出现腔室空闲；4)间歇通气：间歇从反应腔室的上电极通入气体；5)工艺前处理：在腔室内进行沉积，刻蚀操作；6)工艺片的沉积。