[发明专利]一种适用范围广的真空镀膜设备

摘要

本发明提供一种适用范围广的真空镀膜设备，镀膜室通过连接轴设置在盖体的左右两侧，第一锁定装置、第二锁定装置配合使用使得盖体、镀膜室形成一个密闭的空间，盖体上设有真空泵，任一镀膜室内部均设有蒸发装置；镀膜室的底部中央位置设有旋转电机，旋转电机上设有竖直设置的旋转支撑杆，旋转支撑杆的顶部延伸至镀膜室的顶端，旋转支撑杆上竖直平行设有若干滑槽，任一滑槽内设有若干滑块，滑块与滑槽滑动连接，任一滑块上均设有第一支架、第二支架，第二支架可沿第一支架伸缩，第二支架的末端设有固定模块；任一镀膜室的外部设有控制面板。本发明的有益效果是可对不同规格尺寸的部件进行镀膜作业，连续作业生产效率高。

主权项

一种适用范围广的真空镀膜设备，其特征在于：包括盖体、连接轴、镀膜室、旋转电机、旋转支撑杆、滑槽、滑块、第一支架、第二支架、固定模块、第一锁定装置、第二锁定装置、蒸发装置、真空泵、控制面板，所述镀膜室通过所述连接轴设置在所述盖体的左右两侧，任一所述镀膜室上均设有所述第一锁定装置，所述盖体上设有所述第二锁定装置，所述第一锁定装置、第二锁定装置配合使用使得所述盖体、镀膜室形成一个密闭的空间，所述盖体上设有真空泵，任一所述镀膜室内部均设有蒸发装置；所述镀膜室的底部中央位置设有旋转电机，所述旋转电机上设有竖直设置的旋转支撑杆，所述旋转支撑杆的顶部延伸至镀膜室的顶端，所述旋转支撑杆上竖直平行设有若干滑槽，任一所述滑槽内设有若干滑块，所述滑块与滑槽滑动连接，任一所述滑块上均设有第一支架，所述第一支架上活动设有第二支架，所述第二支架可沿第一支架伸缩，所述第二支架的末端设有固定模块；任一所述镀膜室的外部设有控制面板，所述控制面板分别和所述旋转电机、蒸发装置、真空泵通过电连接。