[发明专利]清洗装置

摘要

本发明提供一种清洗装置，适合对应高压清洗，提高清洗作业效率，并且灵活对应多种多样的工件而提高生产率。清洗装置(10)从配设于清洗区域(E)的喷嘴(22)喷出清洗液而清洗工件(W)，具备以面临清洗区域(E)的方式配设并且保持工件(W)并使其移动的进给台装置(40)、配设于进给台装置(40)并保持工件(W)的把持装置(17)、移动自如地支承进给台装置(40)的移动装置(70)、遮蔽移动装置(70)和清洗区域(E)之间并且供进给台装置(40)贯通的罩装置(14)，利用进给台装置(40)将工件(W)移动至清洗区域(E)进行清洗。

主权项

1.一种清洗装置，从配设于清洗区域的喷嘴喷出清洗液对工件进行清洗，所述清洗装置的特征在于具备：移动装置；进给台装置，配设于所述移动装置，以面临所述清洗区域的方式配设，保持所述工件并使其移动，具备：进给台；第一旋转滑鞍，配设于所述进给台的前方，绕第一轴旋转自如；第二旋转滑鞍，配设于所述第一旋转滑鞍，绕与所述第一轴不同的方向的第二轴旋转自如；第一驱动装置，使所述第一旋转滑鞍旋转；第二驱动装置，使所述第二旋转滑鞍旋转；以及把持装置，配设于所述第二旋转滑鞍，保持所述工件，具有保持所述工件的流体压缸；所述移动装置移动自如地支承所述进给台装置；流体供给装置，从流体供给源向所述流体压缸供给压力流体，具备：第一流体供给用旋转接头，配设于所述第一旋转滑鞍，绕所述第一轴旋转自如；第二流体供给用旋转接头，配设于所述第二旋转滑鞍，绕所述第二轴旋转自如；第一流体通路，从所述流体供给源向所述第一流体供给用旋转接头供给压力流体；第二流体通路，从所述第一流体供给用旋转接头向所述第二流体供给用旋转接头供给压力流体；以及第三流体通路，从所述第二流体供给用旋转接头向所述流体压缸供给压力流体；喷嘴，配设于所述清洗区域；以及罩装置，将所述移动装置和所述清洗区域之间遮蔽，并且供所述进给台装置贯通，使得所述第一旋转滑鞍和所述喷嘴位于所述清洗区域；所述第一驱动装置和所述第二驱动装置相对于所述清洗区域与所述罩装置相比配设于外侧，利用所述进给台装置将所述工件移动至所述清洗区域进行清洗。