[发明专利]坩埚装置和蒸镀设备有效
| 申请号： | 201510437009.3 | 申请日： | 2015-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN104962864B | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 何瑞亭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静,黄灿 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种坩埚装置和蒸镀设备。其中，该坩埚装置包括外壁、内壁及加热部件，所述加热部件设置于所述外壁的外部；所述外壁和所述内壁形成一用于容纳导热液体的腔体。通过本发明，达到了提高坩埚加热时的温度均匀性，保证了蒸镀出来的薄膜厚度均匀性高，而且可以避免蒸镀材料变性情况发生的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 装置 设备 | ||
【主权项】：
一种坩埚装置，其特征在于，包括：外壁、内壁及加热部件，所述加热部件设置于所述外壁的外部，所述加热部件为加热丝；所述外壁和所述内壁形成一用于容纳导热液体的腔体；所述外壁的侧壁上设置有一用于向所述腔体中注入所述导热液体的液体注入管；所述液体注入管上设置有冷却部件，用于对所述液体注入管进行冷却，使得蒸发到所述液体注入管处的气态导热液体冷却为液态导热液体并回流到所述腔体中。
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