[发明专利]逻辑门电路及CMOS数字电路总剂量效应敏感性的分析方法有效
申请号: | 201510413204.2 | 申请日: | 2015-07-14 |
公开(公告)号: | CN105070669B | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 丁李利;郭红霞;陈伟;姚志斌;郭晓强;罗尹虹;张凤祁;赵雯 | 申请(专利权)人: | 西北核技术研究所 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人: | 杨亚婷 |
地址: | 71002*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种逻辑门电路及CMOS数字电路总剂量效应敏感性的分析方法,包括1)列举待分析逻辑门电路在辐照过程中的工作状态,列举待分析逻辑门电路在测试过程中的工作状态,将两种过程中的工作状态进行排列组合形成多组输入信号组合,2)将组成分析逻辑门电路的pMOS管组合的具体结构和nMOS管组合的具体结构进行简化并等效为反相器的结构形式;3)计算各反相器的电导,最小的等效pMOS管电导和最大的等效nMOS管电导组合将对应着最强的总剂量敏感性。本发明能够快速甄别出电路中的总剂量效应敏感节点的方法,实现了在设计阶段对于电路中总剂量效应敏感节点的甄别,进而可用于指导加固设计,极大地节约了版图面积。 | ||
搜索关键词: | 逻辑 门电路 cmos 数字电路 剂量 效应 敏感性 分析 方法 | ||
【主权项】:
一种逻辑门电路的总剂量效应敏感性的分析方法,其特征在于:包括以下步骤:1)列举待分析逻辑门电路在辐照过程中的工作状态,列举待分析逻辑门电路在测试过程中的工作状态,其中的工作状态指的是输入信号的电平设置;将两种过程中的工作状态进行排列组合形成多组输入信号组合;2)根据待分析逻辑门电路的结构特点和各组输入信息组合,将组成分析逻辑门电路的pMOS管组合的具体结构和nMOS管组合的具体结构进行简化并等效为反相器的结构形式;3)根据等效得到的反相器的结构形式,计算各反相器的电导,最小的等效pMOS管电导和最大的等效nMOS管电导组合将对应着最强的总剂量敏感性;对于pMOS管的组合而言,单个pMOS管的电导值正比于其宽长比(W/L),当pMOS管并联时,将各个pMOS管电导值求和得到等效反相器中pMOS管的电导值;当pMOS管串联时,将各个pMOS管电导值的倒数求和得到对应等效电导值的倒数;对于nMOS管组合,单个nMOS管的电导值正比于其沟道长度的倒数(1/L),按照与pMOS管相同的方法计算电导的串并联法则进行等效。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造