[发明专利]梯度MCrAlX涂层单靶电弧离子镀一步制备方法在审
申请号: | 201510323481.4 | 申请日: | 2015-06-15 |
公开(公告)号: | CN106319454A | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 沈明礼;赵盼盼;朱圣龙;王世臣;王福会 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司21001 | 代理人: | 任玉龙 |
地址: | 110015 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及梯度MCrAlX涂层单靶电弧离子镀一步制备方法,属于涂层技术领域,可用于制备抗高温氧化和热腐蚀涂层及热障涂层的粘结层等。MCrAlX:M包括但不限于Fe、Co、Ni、Ti、Pt、Zr、W、Nb、B或其组合,X为稀土元素包括但不限于Y、La、Hf、Ce、Gd、Dy或其组合。利用二次溅射现象,通过在镀膜过程中实时调节偏压,可由单一MCrAlX靶,不借助于其他工艺,一步获得铝、铬成分由涂层表面到内部呈梯度变化的梯度MCrAlX涂层。本发明利用了电弧离子镀高离化率及高偏压下涂层反溅射的特点,使得梯度MCrAlX涂层可由单一靶材获得,并且所制备涂层组织致密,工艺稳定性和制备效率高,远优于其他多个工艺组合制备梯度涂层的方法,成本较低,适于工业化应用。 | ||
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【主权项】:
梯度MCrAlX涂层单靶电弧离子镀一步制备方法,其特征在于:由单一MCrAlX合金靶材,在电弧离子镀膜过程中,通过实时增加或降低基片偏压,不借助于其他工艺,一步获得铝、铬含量由涂层表面到内部呈梯度分布的梯度MCrAlX涂层;所述MCrAlX合金靶材,M包括Fe、Co、Ni、Ti、Pt、Ag、Si、Zr、W、Nb、B或其组合,X为稀土元素包括Y、La、Hf、Ce、Gd、Dy或其组合;其中:Cr含量的质量比为20%‑60%,Al含量的质量比为5%‑30%;此外,靶材中还能含有钨、钼、钽、铌高熔点组元。
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