[发明专利]有机二阶非线性光学发色团及合成方法和应用在审
| 申请号： | 201510317552.X | 申请日： | 2015-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN106279133A | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 薄淑晖;胡超磊;陈卓;甄珍;刘新厚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | C07D409/08 | 分类号： | C07D409/08;C07D471/04;C09K11/06;C08J5/18;C08L69/00;C08K5/45 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司11257 | 代理人： | 张文祎 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种有机二阶非线性光学发色团及合成方法和应用，该有机二阶非线性光学发色团具有式(CL)或式(HCL)的结构：其中：G为H、苯基、对烷氧基苯基、噻吩基或对二烷氨基苯基；R1为烷基、苄基、卤代烷基；R2为甲基或三氟甲基；R3为烷基、苯基、取代苯基、取代噻吩基或羟烷基。本发明的具有D-π-A结构的有机二阶非线性光学发色团的合成步骤简单，制备产率高，在大多数有机溶剂中具有良好的溶解性、较高的热稳定性，可广泛应用于光信息材料领域。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 非线性 光学 发色团 合成 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种有机二阶非线性光学发色团，其特征在于，具有式(CL)或式(HCL)的结构：其中：G为H、苯基、对烷氧基苯基、噻吩基或对二烷氨基苯基；R1为烷基、苄基、卤代烷基；R2为甲基或三氟甲基；R3为烷基、苯基、取代苯基、取代噻吩基或羟烷基。
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