[发明专利]一种无机超分子双电层二维纳米片及其制备方法有效
申请号: | 201510313327.9 | 申请日: | 2015-06-10 |
公开(公告)号: | CN104944431B | 公开(公告)日: | 2017-06-27 |
发明(设计)人: | 李保山;刘传 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | C01B33/44 | 分类号: | C01B33/44 |
代理公司: | 北京五月天专利商标代理有限公司11294 | 代理人: | 王天桂 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种无机超分子双电层二维纳米片及其制备方法,以蒙脱土或类蒙脱土为基础原料,通过层板剥离胶体化、胶体聚沉等步骤制得了无机超分子双电层二维纳米片,该纳米片可广泛应用于催化、污水处理、防腐涂料等领域,具有很好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 无机 分子 双电层 二维 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种无机超分子双电层二维纳米片,其特征在于,通过如下方法制备得到:以蒙脱土层板为基体,包括如下步骤:先将蒙脱土依次采用湿法提纯、钠化处理、酸处理得到酸化蒙脱土,将得到的酸化蒙脱土、水、四丁基氢氧化铵按照一定的比例混合,在室温下搅拌1‑10天,得到胶体溶液,向该溶液中加入一定量的无机酸或含锂离子、钠离子、钾离子、铷离子的盐溶液,得到絮凝状沉淀,再进行抽滤,洗涤,烘干得到所述无机超分子双电层二维纳米片。
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