[发明专利]一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物及其应用在审
| 申请号： | 201510311498.8 | 申请日： | 2015-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN104888218A | 公开（公告）日： | 2015-09-09 |
| 发明（设计）人： | 林帆;刘观峰 | 申请（专利权）人： | 青岛阳光动力生物医药技术有限公司 |
| 主分类号： | A61K41/00 | 分类号： | A61K41/00;A61P17/10;A61K31/722 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266100 山东省青岛市崂山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物及其应用。本发明的光敏分子的祛痘组合物以组合物的重量百分比计包含如下组分：0.000001-0.0025wt%的光敏分子，0.005- 0.15wt%修复因子及余量的去离子水。所述光敏分子带有聚赖氨酸基团，对目标致病菌具有靶向攻击性。特定能量的光子激发光敏剂靶分子，光敏剂靶分子将能量传递给肌体中氧分子，形成高能态的氧，其后高能量的氧分子杀灭相邻的目标病菌痤疮丙酸杆菌、金黄色葡萄球菌，所述的修复因子能有效保湿、促进细胞生长，加快痤疮的伤口愈合。本发明含光敏分子的组合物在祛痘应用上，有效结合光敏分子杀菌作用与壳多糖的修复功能，在效果上优于单一组分。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 靶向 抗菌 基团 光敏 分子 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种具有靶向抗菌基团的光敏分子的祛痘组合物，其以组合物的重量百分比计包含如下组分：0.000001‑0.0025 wt%的光敏剂，0.05‑0.15wt% 修复因子及余量的去离子水； 所述的光敏剂为氨基酸酞菁锌及其衍生物；所述的修复因子为壳多糖及其衍生物。
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