[发明专利]缩点釉及其制备方法在审
申请号: | 201510236232.1 | 申请日: | 2015-05-11 |
公开(公告)号: | CN104909833A | 公开(公告)日: | 2015-09-16 |
发明(设计)人: | 林迪辉 | 申请(专利权)人: | 湖南仙凤瓷业有限公司 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 何耀煌 |
地址: | 412200*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种缩点釉,它的组份和各组份质量份如下:基础釉料:100份;气象硅:15份-25份,基础釉料的组份和各组份质量份如下:钾长石:40份-45份;石英:15份-20份;方解石:8份-10份;碳酸锶:3份-5份;氧化锌:1份-2份;碳酸钡:3份-5份;高岭土:6份-8份;滑石:4份-5份;硅酸锆:12份-15份。本发明的釉层收缩成点状效果,美观别致,有良好的艺术效果,产品极具收藏价值。 | ||
搜索关键词: | 缩点釉 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种缩点釉,其特征在于它的组份和各组份质量份如下:基础釉料:100份;气象硅:15份‑25份。
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