[发明专利]一种蚀刻装置有效

专利信息
申请号: 201510219704.2 申请日: 2015-05-04
公开(公告)号: CN104779188B 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 刘亮;尹德胜 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 代理人: 吴大建,刘华联
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种蚀刻装置,该蚀刻装置包括用于容纳蚀刻液的蚀刻区;形成在蚀刻区的下方的暂存区,暂存区的底部上设有排液口;以及设置蚀刻区与暂存区之间的用于控制蚀刻区与暂存区之间的导通状态的节流机构。根据本发明的蚀刻装置能够避免蚀刻区内的混合液产生扰动,有效避免蚀刻区的混合液出现浑浊,由此能够彻底清除蚀刻区内的废物,避免降低蚀刻液的腐蚀效果,同时还可提高蚀刻液的使用寿命。
搜索关键词: 一种 蚀刻 装置
【主权项】:
一种蚀刻装置,包括:用于容纳蚀刻液的蚀刻区;形成在所述蚀刻区的下方的暂存区,所述暂存区的底部上设有排液口;以及设置在所述蚀刻区与暂存区之间的用于控制所述蚀刻区与暂存区之间的导通状态的节流机构,所述节流机构包括能够相互接合或脱离的第一挡板和第二挡板,其中所述节流机构构造成:当所述第一与第二挡板相脱离时,所述蚀刻区与暂存区相连通;当所述第一与第二挡板相接合时,所述蚀刻区与暂存区相隔断。
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