[发明专利]缓解用于ID图案的缺陷适印性的方法有效
| 申请号： | 201510193413.0 | 申请日： | 2015-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN105319860B | 公开（公告）日： | 2017-11-21 |
| 发明（设计）人： | 卢彦丞;许家豪;游信胜;陈家桢;陈政宏;严涛南 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/72 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 | 代理人： | 章社杲,李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 根据一些实施例，本发明提供了一种缓解用于ID图案的缺陷适印性的方法。该方法包括将掩模加载至光刻系统，掩模包括一维集成电路(IC)图案；利用光刻系统中的光瞳相位调制器来调制从掩模衍射的光的相位；以及利用掩模和光瞳相位调制器，在光刻系统中对目标执行光刻曝光工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 缓解 用于 id 图案 缺陷 适印性 方法 | ||
【主权项】：
一种用于远紫外线光刻工艺方法，包括：将掩模加载至光刻系统，所述掩模包括一维集成电路(IC)图案；利用所述光刻系统中的光瞳相位调制器来调制从所述掩模衍射的光的相位；以及利用所述掩模和所述光瞳相位调制器，在所述光刻系统中对目标执行光刻曝光工艺；其中，将所述掩模加载至所述光刻系统包括在所述一维集成电路图案定向为第一方向的结构中固定所述掩模；以及所述光瞳相位调制器被配置为使得所述光刻系统的投影光瞳面上的相位沿着所述第一方向改变。
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