[发明专利]曝光装置以及用于制造物品的方法有效

专利信息
申请号: 201510140909.1 申请日: 2015-03-30
公开(公告)号: CN104977812B 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 和泉望;长野浩平 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 宿小猛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了一种曝光装置以及用于制造物品的方法,该曝光装置包含经由原件侧标记和投影光学系统来检测基板侧标记的第一检测器;与第一检测器相比按照更多的数量来布置的且在不经由投影光学系统的情况下检测基板侧标记的第二检测器;具有参考标记的参考板;以及控制单元,该控制单元被配置为通过第二检测器来获得该多个参考标记的第一检测结果,基于第一检测结果来获得与该多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息,通过第一检测器和第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果,基于第二检测结果来获得与第一检测器与第二检测器之间的距离相关的第二信息,并且基于第一信息和第二信息来控制原件与基板的对准。
搜索关键词: 曝光 装置 以及 用于 制造 物品 方法
【主权项】:
一种用于经由投影光学系统将形成于原件上的图案的图像转印到基板上的曝光装置,其特征在于,所述曝光装置包含:第一检测器,所述第一检测器经由形成于所述原件上的原件侧标记和所述投影光学系统来检测形成于所述基板上的基板侧标记中的至少一个;多个第二检测器,所述多个第二检测器以与所述第一检测器相比更多的数量来布置并且在不经由所述投影光学系统的情况下分别检测所述基板侧标记;具有多个参考标记的参考板;以及被配置为控制所述原件与所述基板的对准的控制单元,其中所述控制单元被配置为通过所述第二检测器来获得所述多个参考标记的第一检测结果,并且基于所述第一检测结果来获得与所述多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息,其中所述控制单元被配置为通过所述第一检测器和所述第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果,并且基于所述第二检测结果来获得与所述第一检测器和所述第二检测器之间的第二距离相关的第二信息,并且其中所述控制单元被配置为基于所述第一信息和所述第二信息来控制所述原件与所述基板的对准。
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