[发明专利]曝光装置以及用于制造物品的方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置以及用于制造物品的方法。

背景技术

将原件(例如，掩模)的图案转印到其上施加了抗蚀剂的基板(例如，玻璃板和晶圆)之上的曝光装置已经被用于制造平板(例如，液晶面板和有机EL面板)以及半导体器件。在这样的曝光装置中，将原件的图案高精度地定位于基板上的照射区(shot area)内是重要的。同时，提高曝光装置的吞吐量(生产能力)同样是所期望的。

作为用于提高吞吐量的方法，例如，存在着这样的方法：在原件与基板的对准(定位)中，只有一部分标记(对准标记)已被测量(减少待测量的标记的数量)，而非测量基板上的全部标记。日本专利No.5006761公开了这样的方法：在照射区内的标记只有一部分被测量，并且照射区内的校正量基于在全部标记都已被测量的另一个基板上的照射区来预测。

但是，很有可能，在日本专利No.5006761中公开的方法将会由于在基板随机变形的情形中待测量的标记的数量减少而导致照射区的校正量的误差。

发明内容

本发明提供了例如在提高对准精度和吞吐量方面有优势的曝光装置。

根据本发明的一个方面，本发明提供了用于经由投影光学系统将形成于原件上的图案的图像转印到基板上的曝光装置，该曝光装置包含：经由形成于原件上的原件侧标记和投影光学系统来检测形成于基板上的基板侧标记中的至少一个的第一检测器；按照比第一检测器多的数量来布置的并且在没有经由投影光学系统的情况下分别检测基板侧标记的多个第二检测器；具有多个参考标记的参考板；以及被配置为控制原件与基板的对准的控制单元，其中控制单元被配置为通过第二检测器来获得该多个参考标记的第一检测结果并且基于第一检测结果来获得与该多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，控制单元被配置为通过第一检测器和第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果并且基于第二检测结果来获得与第一检测器与第二检测器之间的距离相关的第二信息，并且控制单元被配置为基于第一信息和第二信息来控制原件与基板的对准。

根据以下关于示例性实施例的描述(参照附图)，本发明的更多特征将变得很清晰。

附图说明

图1示出了根据本发明的一个实施例的曝光装置的配置。

图2A示出了一个实施例中基板上的标记的布局。

图2B示出了一个实施例中原件上的标记的布局

图2C示出了一个实施例中对准观测仪(scope)的布局。

图2D示出了一个实施例中离轴观测仪的布局。

图2E示出了一个实施例中参考标记的布局。

图3是示出了一个实施例中的对准流程的流程图。

具体实施方式

以下，将参考附图来描述本发明的优选实施例。

首先，将给出关于根据本发明的一个实施例的曝光装置的配置的描述。图1是示出根据本实施例的曝光装置100的配置的示意图。曝光装置100在例如平板(诸如液晶显示器件和有机EL器件)的制造过程中被用作光刻装置。特别地，在本实施例中，曝光装置100是通过步进扫描法将形成于原件(掩模)上的图案3a转印(曝光)到基板5a(即，例如，玻璃板)上的扫描型投影曝光装置。曝光装置100包含照明光学系统1、原件台3b、投影光学系统4、基板台5b、对准测量单元2、离轴测量单元9、参考板10和控制单元8。注意，在下面的图1和图2A至2E中，Y轴被定位于在与垂直方向上的Z轴垂直的平面中曝光期间原件3a和基板5a的扫描方向上，而X轴被定位于与Y轴正交的非扫描方向上。

照明光学系统1具有光源(未示出)并且将狭缝形照明光(例如，圆弧形)照射到原件3a上。原件台3b保持原件3a并且在Y轴方向上是可移动的。投影光学系统4采用由多个镜面配置的镜面投影方法，并且将形成于原件3a上的图案的图像以例如相等的倍率投影到由基板台5b保持的基板5a上。基板台(基板保持单元)5b被放置于底座6上、保持住基板5a并且可在例如六个方向(具体地，X、Y、Z、ωx、ωy和ωz方向)上移动。在曝光期间，由原件台3b保持的原件3a以及由基板台5b保持的基板5a按照经由投影光学系统4位置共轭的关系(投影光学系统4的对象表面和图像表面)被布置。