[发明专利]太阳能电池微纳尺寸陷光结构、太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201510109618.6 申请日: 2015-03-13
公开(公告)号: CN105304733A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 盛赟 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236;H01L31/18
代理公司: 浙江永鼎律师事务所 33233 代理人: 郭小丽
地址: 213031 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种应用于太阳能电池的微纳尺寸陷光结构,包括晶体硅衬底,所述晶体硅衬底具有正面和背面,其特征在于:掩膜,图形化和刻蚀晶体硅衬底的背面获得的条状、柱状、锥状、孔状结构的一种或多种,在所述晶体硅衬底的正面和背面分别覆盖介质层。同时,本发明还公开了一种包含所述微纳尺寸陷光结构的太阳能电池,及其制备方法,属于太阳能电池技术领域。它解决现有技术中晶体硅太阳能电池对长波长光谱段吸收较弱的技术问题。本发明增强太阳能电池的长波长光谱吸收,从而提高太阳能电池的电流密度和转换效率。
搜索关键词: 太阳能电池 尺寸 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种应用于太阳能电池的微纳尺寸陷光结构,包括晶体硅衬底,所述晶体硅衬底具有正面和背面,其特征在于:掩膜,图形化和刻蚀晶体硅衬底的背面获得的条状、柱状、锥状、孔状结构的一种或多种,在所述晶体硅衬底的正面和背面分别覆盖介质层。
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