[发明专利]一种制程更少的电容触摸屏制造方法有效
申请号: | 201510060317.9 | 申请日: | 2015-02-05 |
公开(公告)号: | CN105988647B | 公开(公告)日: | 2019-01-22 |
发明(设计)人: | 沈奕;吴永俊;吴锡淳;林钢;詹前贤;林铿;陈远明;高嘉桐 | 申请(专利权)人: | 汕头超声显示器技术有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 汕头市潮睿专利事务有限公司 44230 | 代理人: | 林天普;丁德轩 |
地址: | 515065 广东省汕头市龙湖区龙江*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种制程更少的电容触摸屏制造方法,包括如下步骤:(1)在玻璃基板上形成金属层,金属层图形化为金属搭桥及周边线路;(2)在金属层上形成绝缘层,绝缘层图形化为绝缘垫块;(3)在绝缘层上沉积ITO层,ITO层图形化为X方向电极及Y方向电极;绝缘层、或者ITO层、或者绝缘层与ITO层的结合对金属层进行覆盖。由于先形成金属层,然后采用绝缘层、或者ITO层、或者绝缘层与ITO层的结合对金属层进行覆盖,对金属层进行保护,防止金属层被氧化或腐蚀,省去了保护层,减少了一道工序,降低了生产成本;另外,由于没有聚酰亚胺等透明度较低的材料形成的保护层,使得电容触摸屏的透光率更高,提高了电容触摸屏的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 更少 电容 触摸屏 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制程更少的电容触摸屏制造方法,其特征在于包括如下步骤:(1)在玻璃基板上形成一层金属层,采用光刻法对金属层进行图形化,形成金属搭桥及周边线路;(2)在金属层上形成一层绝缘层,采用显影法对绝缘层进行图形化,形成绝缘垫块;(3)在绝缘层上沉积一层ITO层,采用光刻法对ITO层进行图形化,形成X方向电极及Y方向电极;在所述步骤(2)中,先采用绝缘层对金属层进行覆盖,接着在步骤(3)中,采用ITO层对绝缘层进行覆盖,并且,步骤(3)中,覆盖在周边线路上的ITO层被图形化为与周边线路形状一致的ITO覆盖条,ITO覆盖条的宽度大于周边线路的宽度。
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