[发明专利]一种发光多孔配位聚合物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201510060208.7 申请日: 2015-02-05
公开(公告)号: CN104628751A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 朱爱新;邱臻哲;杨利波;李秋霞 申请(专利权)人: 云南师范大学
主分类号: C07F3/08 分类号: C07F3/08;C09K11/06;G01N21/64
代理公司: 昆明科阳知识产权代理事务所 53111 代理人: 孙山明
地址: 650500 云南省*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 一种发光多孔配位聚合物及其制备和应用。本发明涉及的聚合物化学式为[Cd2(tba)3Cl],其中tba-1为配体4-(1,2,4-1H-三氮唑)苯甲酸的阴离子,该聚合物的晶体结晶为正交晶系,Pnma空间群,具有tba-1主配体和氯离子辅助配体桥联镉离子形成的一维孔道,其三维框架结构的孔洞率为37.5%。该聚合物采用溶剂热法制备。该聚合物可用于识别不同芳香分子的荧光探针,尤其是作为从芳香类分子中识别N,N-二甲基苯胺的分子荧光探针。本发明制备工艺简单,易实施,产物晶体纯度和产率均较高,且检测方法简单、选择性高,具有作为荧光探针及固体发光材料的良好前景。
搜索关键词: 一种 发光 多孔 配位聚合 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种发光多孔配位聚合物,其特征在于:该聚合物化学式为[Cd2(tba)3Cl],其中,tba‑1代表有机配体4‑(1,2,4‑1H‑三氮唑)苯甲酸脱去质子后的阴离子;该聚合物具有tba‑1配体和氯离子桥联镉离子形成的一维孔道,其三维框架结构的孔洞率为37.5%;该聚合物晶体属于正交晶系,空间群为Pnma,晶胞参数分别为:a = 25.786(5) Å、b = 21.045(4) Å、c = 7.4123(15) Å、α=β=γ=90oV =4022.3(14) Å3;框架结构的分解温度为300oC。
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