[发明专利]一种形成有取向膜的基板的清洗方法有效
| 申请号： | 201510058837.6 | 申请日： | 2015-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN104570496B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 李建;范宇光;周永山 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种形成有取向膜的基板的清洗方法，涉及显示技术领域，采用该清洗方法极大改善了因人造纤维摩擦布残留在取向膜引起的取向异常，进而降低了显示面板发生白Mura的概率。一种形成有取向膜的基板的清洗方法，该方法包括对所述取向膜进行冷却处理，在10s‑40s的时间范围内，使得所述取向膜的温度降低10℃‑30℃；对冷却处理后的所述取向膜进行清洗。用于对形成有取向膜的基板的清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 形成 取向 清洗 方法 | ||
【主权项】：
一种形成有取向膜的基板的清洗方法，所述取向膜的取向方式为摩擦取向，其特征在于，包括：对所述取向膜进行冷却处理，在10s‑40s的时间范围内，使得所述取向膜的温度降低10℃‑30℃；对冷却处理后的所述取向膜进行清洗。
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