[发明专利]一种形位公差测量方法在审
| 申请号: | 201510043306.X | 申请日: | 2015-01-28 |
| 公开(公告)号: | CN104819689A | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
| 发明(设计)人: | 张江泓;马迎春;陈建宇;曹晖;王军;罗超玲 | 申请(专利权)人: | 山西迪迈沃科光电工业有限公司 |
| 主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/27;G01B11/08;G01B11/14;G01B11/26 |
| 代理公司: | 太原华弈知识产权代理事务所 14108 | 代理人: | 马秦锁 |
| 地址: | 030006 山西省太原市高新*** | 国省代码: | 山西;14 |
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| 摘要: | 本发明提出一种形位公差测量方法,包括:校正检测平台和检测架体,并将待测工件的模型设置在PC机内;校正检测架体的内侧面上设置的与待测工件的待测部位相对应的图像采集系统和测距系统,并将校正后的信息存储在PC机内,且所有图像采集系统和测距系统与PC机通讯;图像采集系统获取待测部位的图像信息,并记录检测架体的位移,图像信息和位移传输至PC机内,并在PC机内与检测架体、检测平台、待测工件的模型标定在一个三维坐标系下进行处理;每个测距系统偏心旋转至少一次获取与其相对应的待测部位的多组测距数据,并将多组测距数据传输至PC机,在PC机内标定在三维坐标系下进行数据处理。本发明的测量方法,速度快,精度高。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 公差 测量方法 | ||
【主权项】:
一种形位公差测量方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:校正检测平台和设置在检测平台上移动的检测架体,并将待测工件的模型设置在PC机内;步骤二:校正所述检测架体的内侧面上设置的与待测工件的待测部位相对应的图像采集系统和测距系统,并将校正后的信息存储在PC机内,且所有图像采集系统和测距系统与PC机通讯;步骤三:所述图像采集系统获取待测部位的图像信息,并记录检测架体的位移,所述图像信息和位移传输至PC机内,并在所述PC机内与所述检测架体、检测平台、待测工件的模型标定在一个三维坐标系下进行处理,用于判断待测工件的对称度和工件上的安装孔的精度;步骤四:每个所述测距系统偏心旋转至少一次获取与其相对应的待测部位的多组测距数据,并将所述多组测距数据传输至PC机,在PC机内标定在所述三维坐标系下进行数据处理,用于判断该待测部位的垂直度;步骤五:更换同类型的待测部件时,重复执行步骤三至步骤四;更换不同类型的待测部件时,在步骤一中,将更换的待侧部件的模型设置在PC机内,并重复执行步骤三至步骤四。
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