[发明专利]柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机

摘要

本发明公开了一种柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，包括真空室及其内部的卷绕系统、溅射系统和前处理系统；真空系统用于将真空室内抽真空至磁控溅射需要的真空环境；卷绕系统用于实现基材的放卷和收卷，卷绕系统包括放卷机构、第一镀膜鼓、第二镀膜鼓和收卷机构；由放卷机构释放的基材经第一镀膜鼓和第二镀膜鼓，再由收卷机构进行收卷；溅射系统用于对经过第一镀膜鼓和第二镀膜鼓的基材进行镀膜得到镀膜产品；前处理系统用于对基材的两个表面同时进行处理，活化基材表面。本发明采用具有两个镀膜鼓的镀膜机，能够一次性完成柔性基材的双面镀膜，比传统的采用两个生产周期的镀膜方式，能够缩短生产时间，提高生产效率。

主权项

柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，包括真空系统、卷绕系统(2)、溅射系统(3)和前处理系统(4)，真空系统包括真空室(1)和真空泵；卷绕系统(2)、溅射系统(3)和前处理系统(4)均设置在真空室(1)内；所述的真空系统用于将真空室(1)内抽真空至磁控溅射需要的真空环境；所述的卷绕系统(2)用于实现基材(8)的放卷和收卷，卷绕系统(2)包括放卷机构(201)、第一镀膜鼓(207)、第二镀膜鼓(217)和收卷机构(222)；由放卷机构(201)释放的基材(8)经第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)，再由收卷机构(222)进行收卷；第一镀膜鼓(207)与第二镀膜鼓(217)相邻的方向分别为两次镀膜的基材(8)的进入方向；所述的第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)以相同的水平位置布置在真空室的下方，第一镀膜鼓(207)与第二镀膜鼓(217)的直径相同；所述的溅射系统(3)用于对经过第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)的基材(8)进行镀膜得到镀膜产品；所述的前处理系统(4)用于对基材(8)的两个表面同时进行处理，有效除去基材(8)表面的油污和水蒸气，活化基材表面；所述的真空室(1)内部设有多个隔板(101)，隔板(101)将真空室(1)隔离为用于安装卷绕系统(2)的卷绕室(102)，用于安装溅射系统(3)的第一镀膜室(103)和第二镀膜室(104)，以及用于安装前处理系统的前处理室(105)，前处理室(105)位于第一镀膜室(103)与第二镀膜室(104)之间；所述的第一镀膜室(103)和第二镀膜室(104)内部分别通过隔板(101)分割成多个镀膜区间；所述的卷绕室(102)、前处理室(105)和各个镀膜区间的抽气管道(9)分别通过阀门(6)连接真空泵(7)；所述的放卷机构(201)和收卷机构(222)分别位于卷绕室(102)内相对的两侧，其中，放卷机构(201)和第一镀膜鼓(207)之间形成第一张力区间，第一镀膜鼓(207)与第二镀膜鼓(217)之间形成第二张力区间，第二镀膜鼓(217)和收卷机构(222)之间形成第三张力区间；在第一张力区间设有张力测量辊A(203)、展平辊A(206)和至少一个过辊，在第三张力区间设有展平辊B(216)、张力测量辊B(219)和至少一个过辊，所述的展平辊A(206)和展平辊B(216)分别位于第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)的基材(8)进入方向上；所述的溅射系统(3)包括多个磁控溅射源(301)，每个磁控溅射源(301)分别对应一个镀膜区间，并从与卷绕系统相对的方向伸入到第一镀膜室(103)和第二镀膜室(104)，对经过第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)的基材(8)进行镀膜，所述的磁控溅射源(301)分别相对于第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)的轴心呈圆周分布，所述的磁控溅射源(301)采用中频孪生柱状靶结构。