[发明专利]柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机

权利要求书

1.柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，包括真空系统、卷绕系统(2)、溅射系统(3)和前处理系统(4)，真空系统包括真空室(1)和真空泵；卷绕系统(2)、溅射系统(3)和前处理系统(4)均设置在真空室(1)内；

所述的真空系统用于将真空室(1)内抽真空至磁控溅射需要的真空环境；

所述的卷绕系统(2)用于实现基材(8)的放卷和收卷，卷绕系统(2)包括放卷机构(201)、第一镀膜鼓(207)、第二镀膜鼓(217)和收卷机构(222)；由放卷机构(201)释放的基材(8)经第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)，再由收卷机构(222)进行收卷；第一镀膜鼓(207)与第二镀膜鼓(217)相邻的方向分别为两次镀膜的基材(8)的进入方向；

所述的溅射系统(3)用于对经过第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)的基材(8)进行镀膜得到镀膜产品；

所述的前处理系统(4)用于对基材(8)的两个表面同时进行处理，有效除去基材(8)表面的油污和水蒸气，活化基材表面。

2.根据权利要求1所述的柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，所述的真空室(1)内部设有多个隔板(101)，隔板(101)将真空室(1)隔离为用于安装卷绕系统(2)的卷绕室(102)，用于安装溅射系统(3)的第一镀膜室(103)和第二镀膜室(104)，以及用于安装前处理系统的前处理室(105)，前处理室(105)位于第一镀膜室(103)与第二镀膜室(104)之间；

所述的第一镀膜室(103)和第二镀膜室(104)内部分别通过隔板(101)分割成多个镀膜区间；所述的卷绕室(102)、前处理室(105)和各个镀膜区间的抽气管道(9)分别通过阀门(6)连接真空泵(7)。

3.根据权利要求2所述的柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，所述的真空泵(7)为分子泵。

4.根据权利要求1所述的柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，所述的放卷机构(201)和收卷机构(222)分别位于卷绕室(102)内相对的两侧，其中，放卷机构(201)和第一镀膜鼓(207)之间形成第一张力区间，第一镀膜鼓(207)与第二镀膜鼓(217)之间形成第二张力区间，第二镀膜鼓(217)和收卷机构(222)之间形成第三张力区间；

在第一张力区间设有张力测量辊A(203)、展平辊A(206)和至少一个过辊，在第三张力区间设有展平辊B(216)、张力测量辊B(219)和至少一个过辊，所述的展平辊A(206)和展平辊B(216)分别位于第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)的基材(8)进入方向上。

5.根据权利要求4所述的柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，所述的第一张力区间设有过辊A(202)、过辊B(204)、过辊C(205)、过辊D(208)、过辊E(209)、过辊F(210)和过辊G(211)，其中，过辊A(202)、过辊B(204)和过辊C(205)设置在第一镀膜鼓(207)的基材(8)进入方向上，过辊D(208)、过辊E(209)、过辊F(210)和过辊G(211)设置在第一镀膜鼓(207)的基材(8)回收方向上；

所述的第二张力区间设置有过辊H(212)和过辊I(213)；

所述的第三张力区间设置有过辊J(214)、过辊K(215)、过辊L(218)和过辊M(221)，其中，过辊J(214)和过辊K(215)设置在第二镀膜鼓(217)的基材(8)进入方向上，过辊L(218)和过辊M(221)设置在第二镀膜鼓(217)的基材(8)回收方向上；

所述的过辊过辊G(211)和过辊H(212)位于放卷机构(201)的上方，从第一镀膜鼓(207)出来的基材(8)绕过放卷机构(201)上方后进入第二镀膜鼓(217)；

所述的张力测量辊B(219)与过辊M(221)之间设有跟踪机构(220)。

6.根据权利要求1所述的柔性基材双面磁控溅射卷绕镀膜机，其特征在于，所述的第一镀膜鼓(207)和第二镀膜鼓(217)以相同的水平位置布置在真空室的下方，第一镀膜鼓(207)与第二镀膜鼓(217)的直径相同。