[发明专利]曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统有效
| 申请号： | 201510021681.4 | 申请日： | 2015-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN105843181B | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | 杨咏智;李启志;郑毅 | 申请（专利权）人： | 力晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G05B19/418 | 分类号： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统，该模块作动监控方法包括下列步骤。提供一对准光源装置。对准光源装置包括至少一模块。通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值。判断此绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测的绝对偏移值超过容许范围时，产生一异常信号。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机台 对准 光源 装置 模块 监控 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，包括：提供一对准光源装置，其中该对准光源装置包括至少一模块，所述至少一模块包括位于转盘上的多个滤镜，当转盘处于与所述多个滤镜中的一个滤镜对应的预定位置，最大光量的光线通过所述滤镜，一驱动装置驱动所述转盘转动到实际位置；通过一非接触式位置量测法量测所述转盘的预定位置和实际位置之间的绝对角度偏移值；以及判断该绝对角度偏移值是否超过一容许范围，当该绝对角度偏移值超过该容许范围时，产生一异常信号。
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