[发明专利]PVD阵列涂覆器中的边缘均匀性改善有效
| 申请号： | 201480077982.2 | 申请日： | 2014-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN106165058B | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | E·希尔;M·本德;F·皮耶拉利西;D·泽韦林;R·林德伯格;H·嘉特纳 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/34 | 分类号： | H01J37/34;H01J37/32;C23C14/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种用于材料在基板上的沉积的设备。所述设备包括沉积阵列(222)，所述沉积阵列具有三个或更多个阴极(122)，其中所述沉积阵列包括：第一外侧沉积组件(301)，所述第一外侧沉积组件至少包括所述三个或更多个阴极中的第一阴极；第二外侧沉积组件(302)，所述第二外侧沉积组件与所述第一外侧沉积组件相对，所述第二外侧沉积组件(302)至少包括所述三个或更多个阴极中的第二阴极；内侧沉积组件(303)，所述内侧沉积组件包括位于所述第一外侧沉积组件与所述第二外侧沉积组件之间的至少一个内侧阴极。所述第一外侧沉积组件(301)和所述第二外侧沉积组件(302)中的至少一者被配置成用于在相同时间中、在相同基板上、以比所述内侧沉积组件(303)高的速率来沉积材料。 | ||
| 搜索关键词： | pvd 阵列 涂覆器 中的 边缘 均匀 改善 | ||
【主权项】：
1.一种用于材料在基板上的沉积的设备(100)，所述设备包括：沉积阵列(222)，所述沉积阵列具有三个或更多个阴极(122)，其中所述沉积阵列包括第一外侧沉积组件(301)，所述第一外侧沉积组件至少包括所述三个或更多个阴极中的第一阴极；第二外侧沉积组件(302)，与所述第一外侧沉积组件相对，所述第二外侧沉积组件至少包括所述三个或更多个阴极中的第二阴极；内侧沉积组件(303)，所述内侧沉积组件包括位于所述第一外侧沉积组件与所述第二外侧沉积组件之间的至少一个内侧阴极；以及控制器(500)，所述控制器被配置成用于控制所述第一外侧沉积组件和所述第二外侧沉积组件的至少一项工艺参数以使得所述第一外侧沉积组件(301)和所述第二外侧沉积组件(302)中的至少一者能够在相同的时间中、在相同的基板上、以比所述内侧沉积组件(303)高的速率来沉积材料。
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