[发明专利]具有袋状部的P隧穿场效应晶体管器件有效

专利信息
申请号: 201480076421.0 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN106062967B 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: U·E·阿维奇;R·科特利尔;I·A·扬 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L29/88 分类号: H01L29/88;H01L29/78;H01L21/18
代理公司: 72002 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈松涛;王英
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 描述了隧穿场效应晶体管(TFET),其包括:具有第一导电类型的漏极区;具有与第一导电类型相对的第二导电类型的源极区;使沟道区在源极区与漏极区之间形成的栅极区;以及设置在源极区的结附近的袋状部,其中袋状部的区由由一种材料形成,所述材料具有的一种类型的原子的百分比比源极区、沟道区、以及漏极区中的这种类型的原子的百分比低。
搜索关键词: 具有 袋状部 场效应 晶体管 器件
【主权项】:
1.一种隧穿场效应晶体管TFET,包括:/n漏极区,所述漏极区具有第一导电类型;/n源极区,所述源极区具有与所述第一导电类型相对的第二导电类型;/n栅极区,所述栅极区使沟道区在所述源极区与所述漏极区之间形成;以及/n谐振袋状部,所述谐振袋状部设置在所述源极区的结附近,其中,所述谐振袋状部包括一种材料,所述材料具有的一种类型的原子的百分比比所述源极区、所述沟道区、以及所述漏极区中的所述一种类型的原子的百分比低,/n其中,所述谐振袋状部是应变区,并且所述漏极区、所述源极区和所述沟道区是弛豫区。/n
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