[发明专利]感光性转印材料、图案形成方法及蚀刻方法有效

专利信息
申请号: 201480069251.3 申请日: 2014-12-01
公开(公告)号: CN105849637B 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 佐藤守正 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 葛凡
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种感光性转印材料、图案形成方法及蚀刻方法,所述感光性转印材料包括支撑体与感光性树脂组合物层,前述感光性树脂组合物层含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸产生剂,所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保护的基团的构成单元(a1),且前述感光性树脂组合物不具有乙烯性交联结构,所述感光性转印材料为正型,且耐热矩形性优异、耐蚀刻剂性优异、抗蚀剂剥离性优异、加工时的扬尘少。
搜索关键词: 感光性 材料 图案 形成 方法 蚀刻
【主权项】:
1.一种感光性转印材料,所述感光性转印材料包括支撑体与感光性树脂组合物层,所述感光性树脂组合物层含有(A)包含聚合物的聚合物成分及(B)光酸产生剂,所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保护的基团的构成单元(a1),所述(A)包含聚合物的聚合物成分,其中所述聚合物含有具有酸基由酸分解性基保护的基团的构成单元(a1),为包含含有下述通式(A1)或通式(A1’)所表示的构成单元的聚合物的聚合物成分,所述感光性树脂组合物不具有乙烯性交联结构,通式(A1)通式(A1)中,R1及R2分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,至少R1及R2的任一个为烷基或芳基,R3表示烷基或芳基,R1或R2与R3可连接而形成环状醚,R4表示氢原子或甲基;通式(A1’)通式(A1’)中,R11及R12分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,至少R11及R12的任一个为烷基或芳基,R13表示烷基或芳基,R11或R12与R13可连接而形成环状醚,R14分别独立地表示氢原子、羟基、卤素原子、烷基、烷氧基、烯基、芳基、芳烷基、烷氧基羰基、羟基烷基、芳基羰基或环烷基。
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