[发明专利]非均质样本扫描设备及其X射线分析仪应用在审

专利信息
申请号: 201480066166.1 申请日: 2014-11-11
公开(公告)号: CN105793696A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 陈泽武;G·艾伦;P·陆;J·斯皮纳佐拉 申请(专利权)人: X射线光学系统公司
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00;G01N23/223
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡洪贵
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种用于材料分析仪的样本扫描设备/技术/方法包括使包含样本的样本池根据扫描图案在该分析仪的测量聚焦区域上移动,从而在该扫描图案中扫描该测量聚焦区域上的样本,并使该样本的多个区域暴露于该聚焦区域。提供了一种用于使样本池旋转的样本池旋转器;以及线性运动台。所组合的旋转和线性运动导致在扫描图案中扫描该测量聚焦区域上的样本,从而使该样本的多个区域暴露于该聚焦区域。该样本扫描设备可与光学器件启动的X射线分析仪结合使用,该X射线分析仪包括一种具有X射线激励路径和X射线检测路径的X射线引擎,其中,该X射线激励路径和/或该X射线检测路径限定该样本聚焦区域。
搜索关键词: 非均质 样本 扫描 设备 及其 射线 分析 应用
【主权项】:
一种用于材料分析仪的样本扫描设备,包括:用于使包含样本的样本池在所述分析仪的测量聚焦区域上旋转的样本池旋转器;以及用于使所述旋转器和所述样本池在所述测量聚焦区域上线性地移动的线性运动台;其中,所述样本池在所述分析仪的所述测量聚焦区域上的组合的旋转和线性运动导致在横过所述样本的扫描图案中扫描所述测量聚焦区域上的所述样本,从而使所述样本池中的所述样本的多个区域暴露于所述测量聚焦区域。
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