[发明专利]非均质样本扫描设备及其X射线分析仪应用在审

专利信息
申请号: 201480066166.1 申请日: 2014-11-11
公开(公告)号: CN105793696A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 陈泽武;G·艾伦;P·陆;J·斯皮纳佐拉 申请(专利权)人: X射线光学系统公司
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00;G01N23/223
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡洪贵
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 非均质 样本 扫描 设备 及其 射线 分析 应用
【权利要求书】:

1.一种用于材料分析仪的样本扫描设备,包括:

用于使包含样本的样本池在所述分析仪的测量聚焦区域上旋转的样本 池旋转器;以及

用于使所述旋转器和所述样本池在所述测量聚焦区域上线性地移动的 线性运动台;

其中,所述样本池在所述分析仪的所述测量聚焦区域上的组合的旋转 和线性运动导致在横过所述样本的扫描图案中扫描所述测量聚焦区域上的 所述样本,从而使所述样本池中的所述样本的多个区域暴露于所述测量聚 焦区域。

2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述设备还包括所述样本池, 所述样本池是可拆卸的并具有带有薄膜的端部,所述样本在测量过程中被 置靠在所述薄膜上。

3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述扫描图案是一种通过使所 述旋转器和所述线性运动台可控地移动所产生的螺旋扫描图案。

4.根据上述权利要求中的任一项所述的设备,其中,与X射线分析仪 相结合,所述X射线分析仪包括一种X射线引擎,所述X射线引擎包括:

X射线激励路径;以及

X射线检测路径;

其中,所述X射线激励路径和/或所述X射线检测路径限定所述测量聚 焦区域。

5.根据权利要求4所述的结合,其中,所述聚焦区域是焦点。

6.根据权利要求5所述的结合,其中,所述焦点由来自/到达所述X 射线激励路径和/或所述X射线检测路径中的至少一个聚焦光学器件的聚焦 X射线所限定。

7.根据权利要求6所述的结合,其中,所述至少一个聚焦光学器件为 至少一个弯曲衍射光学器件或多毛细管光学器件。

8.根据权利要求6所述的结合,其中,所述至少一个聚焦光学器件为 至少一个聚焦单色光学器件。

9.根据权利要求8所述的结合,其中,所述至少一个聚焦单色光学器 件为弯晶光学器件或弯曲多层光学器件。

10.根据权利要求5所述的结合,其中,所述X射线检测路径中的至 少一个聚焦光学器件被定位成,使得其输入焦点位于所述X射线焦点处, 并对应于所述X射线激励路径中的至少一个聚焦光学器件的输出焦点。

11.根据权利要求4所述的结合,其中,所述X射线分析系统包括单 色波长启动的XRF分析仪。

12.根据权利要求11所述的结合,其中,所述分析仪是一种MWDXRF 或ME-EDXRF分析仪。

14.根据上述权利要求中的任一项所述的设备,其中,所述样本包括 需要测量其中的分析物的液体、部分液体、颗粒混合液体/固体材料(例如, 土壤)、或固体(例如,粉末)样本。

15.根据上述权利要求中的任一项所述的设备,其中,所测量的分析 物为从以下列表中选择的至少一种元素:S、Cl、P、K、Ca、V、Mn、Fe、 Co、Ni、Cu、Zn、Hg、As、Pb、Cr和Se。

16.根据上述权利要求中的任一项所述的设备,其中,所述样本为非 均质样本。

17.一种材料分析仪中的样本扫描方法,包括:

使包含样本的样本池在所述分析仪的测量聚焦区域上旋转;以及

使所述旋转器和所述样本池在所述测量聚焦区域上线性地移动;

其中,所述样本池在所述分析仪的所述测量聚焦区域上的组合的旋转 和线性运动导致在横过所述样本的扫描图案中扫描所述测量聚焦区域上的 所述样本,从而使所述样本池中的所述样本的多个区域暴露于所述测量聚 焦区域。

18.根据权利要求17所述的方法,其中,所述方法还包括所述样本池, 所述样本池是可拆卸的并具有带有薄膜的端部,所述样本在测量过程中被 置靠在所述薄膜上。

19.根据权利要求17所述的设备,其中,所述扫描图案是一种通过使 所述旋转器和所述线性运动台可控地移动所产生的螺旋扫描图案。

20.一种材料分析仪中的样本扫描方法,包括:

使包含样本的样本池根据扫描图案在所述分析仪的测量聚焦区域上移 动,从而在横过所述样本的所述扫描图案中扫描所述测量聚焦区域上的所 述样本,并使所述样本池中的所述样本的多个区域暴露于所述测量聚焦区 域。

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