[发明专利]干式蚀刻用腔内部件的制造方法在审
| 申请号： | 201480065490.1 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN105793459A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 峪田宜明;曾珍素;佐古纱雅香 | 申请（专利权）人： | 仓敷博林固机工株式会社 |
| 主分类号： | C23C4/134 | 分类号： | C23C4/134;B05B7/20;C23C4/11;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种干式蚀刻用腔内部件的制造方法，通过能够简便地实施的热喷涂法，能够在干式蚀刻用腔内部件上形成气孔率小且耐腐蚀性高的热喷涂涂层。利用由等离子体热喷涂在使用于干式蚀刻用腔内的部件上形成氧化钇涂层的方法解决上述技术课题。使用氢气以及氩气作为工作气体、将氩气的流量设为60～75升/分、以氩气/氢气的流量的体积比为6～8的方式向等离子体热喷涂机供给氩气以及氢气、使氩气相对于氢气的流量增加，由此使等离子体射流的速度上升且使等离子体射流的温度降低，对该等离子体射流投入作为原料粉末的粒径为10～20μm的氧化钇微粉末，向所述部件的表面热喷涂含有熔融的氧化钇微粉末的等离子体射流。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 用腔内 部件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种干式蚀刻用腔内部件的制造方法，通过等离子体热喷涂在使用于干式蚀刻用腔内的部件上形成氧化钇涂层，其特征在于，使用氢气及氩气作为工作气体；将氩气的流量设为60～75升/分、以氩气/氢气的流量的体积比为6～8的方式向等离子体热喷涂机供给氩气以及氢气、使氩气相对于氢气的流量增加，由此使等离子体射流的速度上升且使等离子体射流的温度降低；对该等离子体射流投入作为原料粉末的粒径为10～20μm的氧化钇微粉末；通过向所述部件的表面热喷涂含有熔融的氧化钇微粉末的等离子体射流而形成氧化钇涂层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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