[发明专利]干式蚀刻用腔内部件的制造方法在审
| 申请号： | 201480065490.1 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN105793459A | 公开（公告）日： | 2016-07-20 |
| 发明（设计）人： | 峪田宜明;曾珍素;佐古纱雅香 | 申请（专利权）人： | 仓敷博林固机工株式会社 |
| 主分类号： | C23C4/134 | 分类号： | C23C4/134;B05B7/20;C23C4/11;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 杨楷;毛立群 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 用腔内 部件 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种干式蚀刻用腔内部件的制造方法，通过等离子体热喷涂在使 用于干式蚀刻用腔内的部件上形成氧化钇涂层，其特征在于，
使用氢气及氩气作为工作气体；
将氩气的流量设为60～75升/分、以氩气/氢气的流量的体积比为 6～8的方式向等离子体热喷涂机供给氩气以及氢气、使氩气相对于氢气 的流量增加，由此使等离子体射流的速度上升且使等离子体射流的温度 降低；
对该等离子体射流投入作为原料粉末的粒径为10～20μm的氧化钇 微粉末；
通过向所述部件的表面热喷涂含有熔融的氧化钇微粉末的等离子 体射流而形成氧化钇涂层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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