[发明专利]作为用于在衬底上形成层的还原剂的二(三甲基甲硅烷基)六元环系统和相关化合物

摘要

使具有呈氧化态的一个原子的一种第一化合物与一种二(三甲基甲硅烷基)六元环系统或相关化合物反应，以形成相对于该第一化合物具有该呈还原态的原子的一种第二化合物。该呈氧化态的原子选自下组，该组由以下各项组成元素周期表中的第2族至第12族、镧系元素、As、Sb、Bi、Te、Si、Ge、Sn、以及Al。

主权项

一种方法，该方法包括：提供具有呈氧化态的原子的一种第一化合物的蒸气，该呈氧化态的原子是处于大于0的氧化态，该呈氧化态的原子选自下组，该组由以下各项组成：元素周期表中的第2族至第12族、镧系元素、As、Sb、Bi、Te、Si、Ge、Sn、以及Al；提供一种还原剂的蒸气，该还原剂选自由通过化学式IA和IB描述的化合物组成的组：以及其中：X1是CR6(SiR1R1’R1”)或N(SiR1R1’R1”)；X2是CR7(SiR1R1’R1”)或N(SiR1R1’R1”)；R1、R1’、R1”、R2、R3、R4、R5、R6和R7各自独立地是H、C1‑10烷基、C6‑14芳基、或C4‑14杂芳基；并且使该第一化合物的蒸气与该还原剂的蒸气反应，以形成相对于该第一化合物具有该呈还原态的原子的一种第二化合物。