[发明专利]涂膜形成方法、带透明导电膜的基材、器件和电子设备有效
| 申请号： | 201480039215.2 | 申请日： | 2014-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN105377449B | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 新妻直人;大屋秀信;牛久正幸;山内正好 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/26 | 分类号： | B05D1/26;B05D5/12;B05D7/00;H01B5/14;H05K3/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种涂膜形成方法，其能够稳定地形成包含具有细的线宽的细线的图案，能够减少细线部的图案形成规定位置外的固体成分残留，该涂膜形成方法是将含有功能性材料的液体涂布在基材(1)上而形成的图案(2)干燥，从而形成上述功能性材料选择性地堆积于边缘部的涂膜之际，通过使上述液体含有与上述功能性材料的亲和性高的溶剂和与上述功能性材料的亲和性低的溶剂，使上述功能性材料堆积于上述涂膜的上述边缘部。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 透明 导电 基材 器件 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种涂膜形成方法，将以分散或溶解的状态含有功能性材料的液体涂布在基材上而形成的图案进行干燥，从而形成所述功能性材料选择性地堆积于边缘部的涂膜时，所述功能性材料为导电性材料，通过所述液体含有与所述功能性材料的亲和性高的溶剂和与所述功能性材料的亲和性低的溶剂，从而使所述功能性材料堆积于所述涂膜的所述边缘部，相对于所述液体的总量，与所述功能性材料的亲和性低的溶剂的含有率为10重量％～40重量％的范围。
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