[发明专利]涂膜形成方法、带透明导电膜的基材、器件和电子设备

说明书

本发明的目的在于提供一种涂膜形成方法，其能够稳定地形成包含具有细的线宽的细线的图案，能够减少细线部的图案形成规定位置外的固体成分残留，该涂膜形成方法是将含有功能性材料的液体涂布在基材(1)上而形成的图案(2)干燥，从而形成上述功能性材料选择性地堆积于边缘部的涂膜之际，通过使上述液体含有与上述功能性材料的亲和性高的溶剂和与上述功能性材料的亲和性低的溶剂，使上述功能性材料堆积于上述涂膜的上述边缘部。

技术领域

本发明涉及用于形成使功能性材料堆积于边缘部的涂膜的涂膜形成方法、利用了由该涂膜形成方法形成的涂膜的带透明导电膜的基材、器件和电子设备。

背景技术

近年来，器件的高功能化、高密度化得到了发展，一直寻求形成含有功能性材料的微小的图案的技术，同时也要求低成本化、制造工序的简化。

作为上述的图案形成法，提出有利用印刷法形成图案。但是，使用各种印刷法，极限也只是形成线宽20μm左右的图案，难以满足所要求的微细化。

专利文献1记载了通过利用液体内部的对流，将液体内含有的固体成分聚集在涂膜的周边部，从而能够形成与涂膜尺寸相比更微小的电配线图案。

另一方面，近年来，随着薄型TV等的需求的提高，开发有液晶、等离子体、有机电致发光或场发射等各种方式的显示技术。

在这些显示方式不同的所有显示器中，透明电极是必需的构成要素。另外，除TV以外，即使在触摸面板、移动电话、电子纸、各种太阳能电池、各种电致发光调光元件中，透明电极也是不可缺少的技术要素。

以往，透明电极主要使用通过真空蒸镀法或溅射法在玻璃、透明的塑料膜等透明基材上制成铟-锡的复合氧化物(ITO)膜而成的ITO透明电极。

但是，在ITO中使用的铟为稀有金属，并且价格高昂，因此希望不使用铟。并且，还存在真空蒸镀法、溅射法的生产间隔时间长，材料使用效率非常差之类的问题，对于ITO透明电极而言存在高成本这样的大问题。

因此，代替ITO透明电极的透明电极的开发已成为当务之急。

与此相对，专利文献2中记载了通过利用液体内部的对流，将液体内含有的银纳米粒子聚集于涂膜的周边部而使由银纳米粒子构成的微小的环状图案相互连接而成的透明导电膜。

专利文献3中记载了通过利用液体内部的对流，将液体内含有的碳纳米管聚集在涂膜的周边部而具有由碳纳米管构成的相互连接而成的多个微小的环状图案的透明导电膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第4325343号

专利文献2:WO2011/051952

专利文献3:日本特表2011-502034号公报

发明内容

专利文献1中记载的图案形成法中，难以使图案线宽更进一步细线化，另外，在形成长的线状图案时，图案的一部分断开的可能性变高，因此稳定性方面存在课题。并且，还存在未通过对流输送的固体成分容易残留在细线部的图案形成规定位置外的课题。

专利文献2、3中记载的图案形成法中，难以使环状图案线宽更进一步细线化，另外，还存在未通过对流输送的固体成分残留在细线部的图案形成规定位置外，使透明性、导电性降低的问题。

因此，本发明的课题在于提供一种涂膜形成方法，上述涂膜形成方法能够稳定形成包含具有细的线宽的细线的图案，能够减少细线部的图案形成规定位置外的固体成分的残留。

另外，本发明的另一课题在于提供带透明导电膜的基材(透明电极)、具备上述带透明导电膜的基材的器件和电子设备，上述带透明导电膜的基材具有在用同一电阻值进行比较时，能够提高透明性的优异的特性。