[发明专利]双射流式气膜冷却构造及其制造方法有效
申请号: | 201480029137.8 | 申请日: | 2014-05-21 |
公开(公告)号: | CN105308267B | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 田中良造;杉本隆雄;饰雅英;谷口智纪;卡斯顿·库斯特尔;迪特·博恩;努莱汀·泰金 | 申请(专利权)人: | 川崎重工业株式会社;B&B艾格玛有限公司 |
主分类号: | F01D5/18 | 分类号: | F01D5/18;B23H9/10;F01D9/02;F02C7/00;F02C7/18 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 谢顺星,张晶 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种抑制冷却介质气膜从壁面剥离,从而有效冷却壁面且制造容易的气膜冷却构造。具有与在面临高温气体(G)通路的壁面(1)上设置的喷出开口(2)相连的主通路(3)、从主通路(3)分支出来的一对分支通路(4、5),以及连通这些通路的连通路(6、7)。将来自一对分支通路(4、5)的冷却介质(CL4、CL5)的喷出方向(A、B)相对于高温气体(G)的流动方向倾斜设置,以形成使这些冷却介质相互推压到壁面(1)的方向的涡流(V1、V2)。主通路(3)及分支通路(4、5)的横截面具有相同的一定内径(D),连通路(6、7)具有连接具有一定内径(D)的正圆孔组而成的包络面(16、17)。主通路的轴心(C3)与壁面(1)所形成的主纵向角度(α1)大于分支通路(4、5)的轴心(C4、C5)与壁面(1)所形成的分支纵向角度(α2)。 | ||
搜索关键词: | 射流 式气膜 冷却 构造 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种双射流式气膜冷却构造,在面临高温气体通路的壁面上设置有使冷却介质朝向所述通路的下游侧喷出的喷出开口;在隔壁内形成有主通路、一对分支通路以及连通路,所述主通路由向所述喷出开口供给所述冷却介质的正圆孔构成;所述一对分支通路从所述主通路上的分支点分支出来并由将所述喷出开口作为出口的正圆孔构成;所述连通路连通所述主通路和所述分支通路并将所述喷出开口作为出口;从所述一对分支通路喷出的冷却介质的喷出方向,设定为相对于所述高温气体的流动方向倾斜,以形成使这些冷却介质相互推压到所述壁面的方向的涡流;所述主通路及分支通路的横截面具有相同的一定内径;所述连通路具有包络面,该包络面是将通过所述分支点且横截面具有所述一定内径的正圆孔组相连而成;将从所述一对分支通路起始的各个喷出方向相对于所述高温气体的流动方向的沿所述壁面的横向喷出角度β,设定为夹着所述流动方向并朝向相互相反方向;所述主通路的轴心方向与所述壁面所形成的主纵向角度α1,设定为大于所述分支通路的轴心方向与所述壁面所形成的分支纵向角度α2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于川崎重工业株式会社;B&B艾格玛有限公司,未经川崎重工业株式会社;B&B艾格玛有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480029137.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。