[发明专利]针对红外辐射的集成成像装置及制造方法

摘要

一种集成成像装置，包括：具有集成电路(4)的衬底(1)、覆盖层(2)、被封闭在衬底(1)与覆盖层(2)之间的腔(6)以及被布置在腔(6)中的传感器(5)或传感器(5)的阵列。衬底(1)或覆盖层(2)的与腔(6)相反的表面(11，12)具有对入射辐射进行引导的结构(8)。表面结构(8)可以为对红外辐射进行聚焦的波带片或菲涅尔透镜，并且分别优选地被蚀刻到衬底或覆盖层的表面中。可以设置至少一个穿衬底通孔(9)以使传感器(5)或传感器(5)的阵列与衬底(1)的与腔(6)相反的表面(11)上的连接垫(10)进行电连接。

主权项

一种集成成像装置，包括：‑包括集成电路(4)的衬底(1)；‑覆盖物(2)；‑在所述衬底(1)与所述覆盖物(2)之间的电介质层(3)；‑传感器(5)或传感器(5)的阵列；‑被包围在所述衬底(1)与所述覆盖物(2)之间的腔(6)；以及‑所述衬底(1)的与所述电介质层(3)相反的表面(11)或者所述覆盖物(2)的与所述电介质层(3)相反的表面(12)设置有用于将入射辐射引导至所述传感器(5)或所述传感器(5)的阵列的结构(8)，所述集成成像装置的特征在于，‑所述覆盖物(2)包括被接合至形成所述电介质层(3)的表面的硅氧化物的硅，‑所述传感器(5)或所述传感器(5)的阵列被布置在所述腔(6)中，以及‑所述腔(6)为真空的或者包括低于100Pa的气体压强。