[发明专利]用于纯化氢氟酸和硝酸的混合物的反渗透有效
| 申请号： | 201480023186.0 | 申请日： | 2014-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN105142763B | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | J-M.科拉尔德 | 申请（专利权）人： | 索尔维公司 |
| 主分类号： | B01D61/02 | 分类号： | B01D61/02;C01B21/46;C01B7/19;C23G1/36;H01L21/306;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 周李军;徐厚才 |
| 地址： | 比利时*** | 国省代码： | 比利时;BE |
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| 摘要： | 披露了通过用至少一个反渗透膜处理包含氢氟酸、硝酸和至少一种硅杂质的溶液纯化该溶液的方法。根据本发明的方法，可以选择性地去除或者减少在该包含氢氟酸和硝酸的溶液中包含的硅杂质。这种方法可以有利地用于光电产业或电池组件产业中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纯化 氢氟酸 硝酸 混合物 反渗透 | ||
【主权项】：
1.一种通过用至少一个反渗透膜处理包含氢氟酸、硝酸和至少一种硅杂质的溶液来纯化该溶液的方法，该溶液是用于在光电领域中的硅晶片的表面加工或表面清洗的废液，其中纯化前在溶液中硝酸含量为0.1％w/w至10％w/w，纯化前在溶液中氢氟酸含量为0.001％w/w至50％w/w，和纯化前在溶液中硅杂质的含量为0.1％w/w至30％w/w；至少90%的该溶液中的硅杂质被该反渗透膜拒绝而该溶液中的至少2/3的这些酸被保持在纯化的溶液中。
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