[发明专利]相位差膜的制造方法在审
| 申请号： | 201480019223.0 | 申请日： | 2014-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN105074516A | 公开（公告）日： | 2015-11-18 |
| 发明（设计）人： | 安藤广敏;冲和宏 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王灵菇;白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供改善了支撑体与光学各向异性层之间的密合性以及液晶取向不良少的相位差膜的制造方法。相位差膜的制造方法包含以下工序：准备含有增塑剂和/或光学特性调整剂的带状支撑体的工序；在所述支撑体上涂布在溶解或溶胀所述支撑体的溶剂中溶解有棒状聚合性液晶化合物、取向控制剂和取向辅助剂的原料液，形成膜的涂布工序；通过干燥涂布在所述支撑体上的膜，形成使所述溶剂渗入到所述支撑体内部的涂膜的干燥工序；按照所述涂膜的内部温度达到使所述取向控制剂和所述取向辅助剂向所述涂膜表面移动的温度的方式，对所述涂膜加热的热处理工序；按照所述涂膜的内部温度达到将所述取向控制剂和所述取向辅助剂的位置固定的温度的方式进行冷却的冷却工序；和对所述涂膜照射活性放射线，将所述涂膜固化的固化工序。 | ||
| 搜索关键词： | 相位差 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种相位差膜的制造方法，其包含以下工序：准备含有增塑剂及光学特性调整剂中的至少1种的带状支撑体的工序；在连续行进的所述支撑体上涂布在溶解或溶胀所述支撑体的溶剂中溶解有棒状聚合性液晶化合物、取向控制剂和取向辅助剂的原料液，形成膜的涂布工序；通过干燥涂布在所述支撑体上的膜，将所述取向控制剂和所述取向辅助剂的位置固定、且形成使所述溶剂渗入到所述支撑体内部0.3μm以上的涂膜的干燥工序；按照所述涂膜的内部温度达到使所述取向控制剂和所述取向辅助剂向所述涂膜表面移动的温度的方式，对所述涂膜加热25秒以上的热处理工序；在所述热处理工序后，按照所述涂膜的内部温度达到将所述取向控制剂和所述取向辅助剂的位置固定的温度的方式进行冷却的冷却工序；和在所述冷却工序后，对残留溶剂比率小于3质量％的所述涂膜照射活性放射线，将所述涂膜固化，形成光学各向异性层的固化工序。
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