[发明专利]金属清除剂用于去除钌残余物的用途有效
| 申请号： | 201480003044.8 | 申请日： | 2014-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN105408506B | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | G·什切潘尼亚克;S·J·恰尔诺茨基;K·斯科夫龙 | 申请（专利权）人： | 阿派朗合成公司 |
| 主分类号： | C22B3/00 | 分类号： | C22B3/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 波兰弗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及式(1)的金属清除剂用于从用钌络合物催化的反应后混合物中、从用钌络合物催化的反应的产物中、以及从被钌污染的有机化合物中去除钌残余物、化合物或其络合物的用途，其中所述式(1)中的各变量如在本发明的说明书中所定义。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 清除 用于 去除 残余物 用途 | ||
【主权项】：
式(1)的金属清除剂用于从用钌络合物催化的反应后混合物中、反应的产物中、以及从被钌污染的有机化合物中去除钌残余物、化合物、或其络合物的用途，其中在式(1)中：R1表示C2‑C25烷基、C2‑C25烯基、C2‑C25炔基、C3‑C7环烷基、C3‑C25环烯基、C8‑C25环炔基、C5‑C24芳基、C5‑C20杂芳基或C3‑C12杂环基，其各自被至少一个异腈(‑NC)基团取代；R2和R3各自独立地表示C2‑C25烷基、C2‑C25烷基烷氧基、C1‑C25烷基氨基、C2‑C25烷氧基、C2‑C25烯基、C3‑C7环烷基、C3‑C25环烯基、C2‑C25炔基、C8‑C25环炔基、C5‑C24芳基、C5‑C20杂芳基或C3‑C12杂环基，其为未取代的或被至少一个异腈(‑NC)基团取代，其中R2和R3可以结合在一起以形成杂环C4‑C16体系，其是未取代的或者被至少一个或多个异腈(‑NC)基团或(‑R'NC)基团取代，其中R'表示C1‑C12烷基、C5‑C24芳基、C5‑C20杂芳基或C3‑C12杂环基。
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