[实用新型]一种掩膜版清洗机台的喷水装置有效
| 申请号： | 201420854542.0 | 申请日： | 2014-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN204331286U | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 马志平 | 申请（专利权）人： | 上海凸版光掩模有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 200233 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于掩膜版清洗机台的喷水装置，所述掩膜版清洗机台的内腔上部具有斜坡通道，所述喷水装置包括：输水管道，所述输水管道的喷水端呈一定角度倾斜并通过所述斜坡通道伸入至所述掩膜版清洗机台内部；气动阀，设置于所述输水管道的进水端，通过调节所述气动阀以调整所述输水管道的水流量；以及固定装置，将所述输水管道固定于所述掩膜版清洗机台的斜坡通道。本实用新型在气动阀开启时，形成水柱直接冲在光掩膜上，从而有效的降低了混合化学离子的水雾的产生，降低了甩干后的光掩膜与混合化学离子的水滴接触的可能性。同时，可以使得水量调节范围更大，以更好地在光掩膜清洗过程中去除其表面的化学离子。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 清洗 机台 喷水 装置 | ||
【主权项】：
一种用于掩膜版清洗机台的喷水装置，所述掩膜版清洗机台的内腔上部具有斜坡通道，其特征在于，所述喷水装置包括：输水管道，所述输水管道的喷水端呈一定角度倾斜并通过所述斜坡通道伸入至所述掩膜版清洗机台内部；气动阀，设置于所述输水管道的进水端，通过调节所述气动阀以调整所述输水管道的水流量；以及固定装置，将所述输水管道固定于所述掩膜版清洗机台的斜坡通道。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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