[实用新型]一种等离子体刻蚀设备有效
| 申请号： | 201420734910.8 | 申请日： | 2014-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN204216005U | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 邹帅;王栩生 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人： | 陆金星 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种等离子体刻蚀设备，包括机台支架、设于机台支架上的传动系统，以及抽气系统和等离子体源；机台支架上按传动系统行进方向依次设有装载缓冲腔室、刻蚀去损伤层工艺腔室、制绒工艺腔室和卸载缓冲腔室；各个腔室之间通过阀门连通；刻蚀去损伤层工艺腔室内设有等离子体源；制绒工艺腔室内设有反应性等离子体源。本实用新型设计了2个工艺腔体，利用等离子干法刻蚀实现硅片表面的线切割损伤层去除，该步骤与RIE制绒在同一台等离子体设备上完成，从而减少工艺步骤，同时也减少了化学品的使用量，大大降低了企业的运营成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种等离子体刻蚀设备，包括机台支架(1)、设于机台支架上的传动系统，以及抽气系统(12)和等离子体源；其特征在于：机台支架上按传动系统行进方向依次设有装载缓冲腔室(5)、刻蚀去损伤层工艺腔室(6)、制绒工艺腔室(7)和卸载缓冲腔室(8)；各个腔室之间通过阀门(11)连通；刻蚀去损伤层工艺腔室内设有等离子体源(9)；制绒工艺腔室内设有反应性等离子体源(10)。
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