[实用新型]一种等离子烤箱有效
申请号: | 201420441352.6 | 申请日: | 2014-08-06 |
公开(公告)号: | CN204105779U | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
发明(设计)人: | 刘欣;杜亚琳;李爽;张寒冰;李良 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨学院 |
主分类号: | A47J37/06 | 分类号: | A47J37/06 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 史霞 |
地址: | 150086 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种等离子烤箱,包括:烤箱主体,其从外向内依次包括形成一容置空间的第一和第二箱体;烹调室,其形成于第二箱体内,烹调室的左右两个侧面上均设置有支撑结构;可旋转地设置于支撑结构之间的烤架;等离子发生器,其设置在容置空间中,等离子发生器包括一绝缘外壳和设置在外壳内的连接至高频高压电源的一对电极;供气装置,其设置在容置空间中,位于烹调室的一侧,与等离子发生器通过第一输送管道连通;供料装置,其设置在容置空间中,位于烹调室的另一侧,与等离子发生器通过第二输送管道连通;喷雾装置,其具有设置在烹调室内的侧面上且朝向烤架开口的喷嘴;等离子发生器与喷嘴通过延伸入烹调室内的第三输送管道连通。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 烤箱 | ||
【主权项】:
一种等离子烤箱,其特征在于,包括: 烤箱主体,其包括一箱体,所述箱体从外向内依次包括第一箱体和第二箱体,所述第一和第二箱体之间形成一容置空间; 烹调室,其形成于所述第二箱体内,所述烹调室的左右两个侧面上均设置有支撑结构; 烤架,其可旋转地设置于所述支撑结构之间; 等离子发生器,其设置在所述容置空间中,所述等离子发生器包括一绝缘外壳和设置在所述外壳内的一对电极,所述一对电极连接至高频高压电源; 供气装置,其设置在所述容置空间中,所述供气装置位于所述烹调室的一侧,所述供气装置与所述等离子发生器通过第一输送管道连通; 供料装置,其设置在所述容置空间中,所述供料装置位于所述烹调室的另一侧,所述供料装置与所述等离子发生器通过第二输送管道连通; 喷雾装置,其具有喷嘴,所述喷嘴设置在所述烹调室内的侧面上且朝向所述烤架开口; 其中,所述等离子发生器的一端与第三输送管道连通,第三输送管道的另一端延伸入所述烹调室内与所述喷嘴连通,通过所述喷嘴将等离子态物质喷射到所述烹调室内。
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