[实用新型]热辐射烘焙架有效
| 申请号： | 201420131704.8 | 申请日： | 2014-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN203748558U | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 潘显敏 | 申请（专利权）人： | 潘显敏 |
| 主分类号： | A23F3/06 | 分类号： | A23F3/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 237000 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公布了一种热辐射烘焙架，其包括立柱、滑槽和支撑架，所述的滑槽为圆形，并且滑槽的底部设有立柱；支撑架由在同一平面上相互垂直的两个支撑杆构成，并且该两个支撑杆的长度相同，垂直点位于支撑杆长度方向的中心点处，支撑架的四个定点分别设置有滚轮；支撑架的底部与固定板的上部联接固定，固定板的下部与从动轴的上部联接固定，从动轴与主动轴通过锥齿轮联接配合；所述的主动轴与动力装置联接。 | ||
| 搜索关键词： | 热辐射 烘焙 | ||
【主权项】：
一种热辐射烘焙架，其包括立柱、滑槽和支撑架，其特征在于：所述的滑槽为圆形，并且滑槽的底部设有立柱；支撑架由在同一平面上相互垂直的两个支撑杆构成，并且该两个支撑杆的长度相同，垂直点位于支撑杆长度方向的中心点处，支撑架的四个定点分别设置有滚轮；支撑架的底部与固定板的上部联接固定，固定板的下部与从动轴的上部联接固定，从动轴与主动轴通过锥齿轮联接配合；所述的主动轴与动力装置联接。
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