[实用新型]热辐射烘焙架有效
申请号: | 201420131704.8 | 申请日: | 2014-03-24 |
公开(公告)号: | CN203748558U | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 潘显敏 | 申请(专利权)人: | 潘显敏 |
主分类号: | A23F3/06 | 分类号: | A23F3/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 237000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热辐射 烘焙 | ||
1.一种热辐射烘焙架,其包括立柱、滑槽和支撑架,其特征在于:所述的滑槽为圆形,并且滑槽的底部设有立柱;支撑架由在同一平面上相互垂直的两个支撑杆构成,并且该两个支撑杆的长度相同,垂直点位于支撑杆长度方向的中心点处,支撑架的四个定点分别设置有滚轮;支撑架的底部与固定板的上部联接固定,固定板的下部与从动轴的上部联接固定,从动轴与主动轴通过锥齿轮联接配合;所述的主动轴与动力装置联接。
2.根据权利要求1所述的热辐射烘焙架,其特征在于:所述的滑槽的外围设有外壁。
3.根据权利要求2所述的热辐射烘焙架,其特征在于:所述的立柱的底部设置有滚轮。
4.根据权利要求1-3中任意一项所述的热辐射烘焙架,其特征在于:所述的动力装置为设置在主动轴上的摇把。
5.根据权利要求1-3中任意一项所述的热辐射烘焙架,其特征在于:所述的动力装置为主动轴通过齿轮传动机构连接电机。
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