[实用新型]一种飞点形成装置有效
申请号: | 201420103574.7 | 申请日: | 2014-03-07 |
公开(公告)号: | CN203773068U | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 王彦华;曹艳锋;王少锋;刘铮 | 申请(专利权)人: | 北京君和信达科技有限公司 |
主分类号: | G01V5/00 | 分类号: | G01V5/00;G01N23/04 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 黄泽雄;金玺 |
地址: | 100011 北京市西城区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种飞点形成装置,包括屏蔽体和辐射源,屏蔽体侧壁上具有成对设置的狭长螺旋槽,屏蔽体的侧壁上具有至少两对螺旋槽,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽;所有入射槽位于辐射源扇形射线束的覆盖范围内,屏蔽体的任一横切面至多经过两个入射槽;每个入射槽相对于屏蔽体的横切面具有倾斜角,相邻两个入射槽之间具有预定距离;各出射槽的位置对应于与其成对设置的入射槽的位置。本实用新型通过合理设置螺旋槽的数量和位置,使各螺旋槽之间留有一定距离,提高了屏蔽体的抗拉性能,可确保设备使用可靠性和安全性。 | ||
搜索关键词: | 一种 形成 装置 | ||
【主权项】:
一种飞点形成装置,包括屏蔽体和辐射源,其中屏蔽体为中空圆柱体,屏蔽体侧壁上具有成对设置的狭长螺旋槽,辐射源位于屏蔽体外侧,其特征在于,屏蔽体的侧壁上具有N对螺旋槽,且N≥2,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽;其中, 以屏蔽体的单个横切面为界,M对螺旋槽位于所述单个横切面一侧,N‑M对螺旋槽位于所述单个横切面另一侧,其中屏蔽体的横切面平行于屏蔽体的底面,M<N; 所有入射槽位于辐射源扇形射线束的覆盖范围内,屏蔽体的任一横切面至多经过两个入射槽; 每个入射槽相对于屏蔽体的横切面具有倾斜角,相邻两个入射槽之间具有预定距离; 各出射槽的位置对应于与其成对设置的入射槽的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京君和信达科技有限公司,未经北京君和信达科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420103574.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:可用于体内成像的5HT1A拮抗剂
- 下一篇:玻璃框体的成形装置以及成形方法