[实用新型]一种真空镀膜装置有效
| 申请号： | 201420011563.6 | 申请日： | 2014-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN203700489U | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 吴军 | 申请（专利权）人： | 天津普利爱特真空镀膜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 天津市新天方有限责任专利代理事务所 12104 | 代理人： | 李桂英 |
| 地址： | 300350 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种真空镀膜装置，包括腔体，所述的腔体内设置有探头、放置基片的模板、第一蒸发源和第二蒸发源；所述的腔体旁侧设置有气管；所述的气管与外部的真空泵连接；所述的第一蒸发源上设置有圆锥形的防护罩，本实用新型的有益效果是结构简单，使用方便，镀膜均匀，能够避免蒸渡过程中的交叉污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜装置，包括腔体（1），其特征在于：所述的腔体（1）内设置有探头（2）、放置基片的模板（5）、第一蒸发源（6）和第二蒸发源（7）；所述的腔体（1）旁侧设置有气管（3）；所述的气管（3）与外部的真空泵（4）连接；所述的第一蒸发源（6）上设置有圆锥形的防护罩（8）。
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